等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
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采用第2、3代技术的等离子清洗机(第1代是压缩空气,第2代是氮气,第3代是氩气),射频介质阻挡放电、DBD放电技术,在3种大气等离子清洗机中清洗能力佳,清洗效果与真空等离子清洗机相当,行业内称为超强大气清洗机。
外形尺寸 | 1855mm(L) x 1137mm(W) x 1251mm(H) |
有效处理宽度 | 20-5000mm |
电源 | 交流 220伏,单相50~60赫兹 ~ 10安 |
使用气体 | 氩气(Ar)/氮气(N2); |
制冷方式 | 空冷、水冷 |
最大功率 | 0~6000W |
传送速度 | 0 ~ 60mm/sec (异步电动机) |
等离子头高度控制范围 | 0~80mm,等离子产生时推荐高度:1~4mm; |
控制方式 | PLC Type (触摸屏界面控制) |